本公开涉及一种用于通过增材制造修理部件(100)的方法。所述方法包括去除所述部件(100)的初始包括多个冷却孔的部分(102)以形成腔(104)，通过增材制造形成包括多个冷却孔(208)的替换部分(200)，以及在通过增材制造形成所述替换部分(200)期间改变所述多个冷却孔(208)中的至少一个冷却孔(208)的表面粗糙度和直径。所述替换部分(200)替换所述部件(100)的所述部分(102)。

1.一种用于修理部件(100)的方法，所述方法包括：去除所述部件(100)初始包括多个冷却孔的部分(102)以形成腔(104)；通过增材制造形成包括多个冷却孔(208)的替换部分(200)，其中所述替换部分(200)替换所述部件(100)的所述部分(102)；以及在通过增材制造形成所述替换部分(200)期间改变所述多个冷却孔(208)中的至少一个冷却孔(208)的表面粗糙度和直径。

本发明涉及用于制备热成形零件的钢带材、片材或坯料，其按重量％计含有至少以下组成：C:0.03?0.17，Mn:0.65?2.50，Cr:0.2?2.0，Ti:0.01?0.10，Nb:0.01?0.10，B:0.0005?0.005，N:≤0.01，其中Ti/N≥3.42。本发明还涉及由这样的钢带材、片材或坯料制备的热成形零件，涉及这样的热成形零件的用途，并且涉及用于将这样的钢坯料或由这样的坯料制成的预制零件成形为零件的方法。

1.用于制备热成形零件的钢带材、片材或坯料，其按重量％计具有以下组成：C:0.03-0.17，Mn:0.65-2.50，Cr:0.2-2.0，Ti:0.01-0.10，Nb:0.01-0.10，B:0.0005-0.005，N:≤0.01，其中Ti/N≥3.42，和任选地选自以下的一种或多种元素：Si:≤0.1，Mo:≤0.1，Al:≤0.1，Cu:≤0.1，P:≤0.03，S:≤0.025，O:≤0.01，V:≤0.15，Ni:≤0.15Ca:≤0.15余量为铁和不可避免的杂质。

本发明提供了一种通过增材制造来制作物理物体的方法。在该方法中，提供可硬化的主要材料，通过连续地硬化可硬化的主要材料的层来构建该物体，并且通过使该物体移动并因而在多余材料中产生质量惯性力，来清理物体上的多余材料。本发明有利于通过增材制造来制作物体。

1.一种通过增材制造来制作物理物体的方法，所述方法包括以下步骤：(a)提供可硬化的主要材料，其中所述可硬化的主要材料是液体或糊状的；(b)通过连续硬化所述可硬化的主要材料的层来构建所述物体；以及(c)通过使所述物体移动并因而在多余材料中产生质量惯性力，来清理所述物体上的所述多余材料；其中所述多余材料由所述可硬化的主要材料和可硬化的次要材料中的至少一者形成。

本发明公开了一种用于增材制造的温度控制装置及其控制方法。该装置在打印头的前端设置前置预热部件，后端设置后置冷却部件；使得成型件在进入打印位置之前，缩小了成型件的表面温度和打印部位的温差，减少了成型件因温差大造成的组织不均匀等现象；打印头的后方设置后置冷却部件，使得成型件在打印结束后能够被冷却气体快速冷却，避免因温度偏高被周围空气氧化的情况，提高成型件表面质量；该温度控制系统及控制方法从控制增材制造沉积过程中熔池的温度和凝固过程中冷却速度的角度出发，通过增加前置预热和后置冷却装置实现了成型件温度场的分区控制，避免了成形缺陷，改善了增材制造过程中温度场的分布，使得成型件内部性质得到改善。

1.一种用于增材制造的温度控制装置，其特征在于，包括控制系统(1)和多自由度机构(2)；多自由度机构(2)的操作端依次固定设置有前置预热部件(5)、打印头(3)和后置冷却部件(6)；沿增材制造的方向，前置预热部件(5)在打印头(3)的前方，后置冷却部件(6)在打印头(3)的后方；增材制造成型件(7)时，前置预热部件(5)、打印头(3)和后置冷却部件(6)均在成型件(7)的上方；前置预热部件(5)的输出热量和后置冷却部件(6)的冷却气体输出量均受控于控制系统(1)。

本发明揭示了一种喷漆治具板热熔拆解设备，用于喷漆治具板的热熔拆解，包括机架、工作台、上料升降机构、加热热熔工位、拆解工位、多工位取料机械手、废弃塑料收集箱以及铝板回收工位，所述喷漆治具板包括铝板及铝板上的六块塑料板，所述工作台设置于机架内，所述上料升降机构、加热热熔工位、拆解工位、多工位取料机械手、废弃塑料收集箱以及铝板回收工位对应设置于工作台上。本发明采用点对点的加热方式，提高热能利用效率，减少热量损失，减少加热时间，将拆解分为三个工位，拆解快效率高，分步拆解压力小，治具板不易损坏，采用点对点加热节省能源，减少成本，适用尺寸变化范围广的物料而不需要更换零件，成本低，调节方便。

1.一种喷漆治具板热熔拆解设备，用于喷漆治具板的热熔拆解，包括机架、工作台、上料升降机构、加热热熔工位、拆解工位、多工位取料机械手、废弃塑料收集箱以及铝板回收工位，所述喷漆治具板包括铝板及铝板上的六块塑料板，其特征在于：所述工作台设置于机架内，所述上料升降机构、加热热熔工位、拆解工位、多工位取料机械手、废弃塑料收集箱以及铝板回收工位对应设置于工作台上，所述上料升降机构与加热热熔工位对应设置，所述加热热熔工位通过拨爪机构与拆解工位对应设置，所述拆解工位与多工位取料机械手对应设置，所述废弃塑料收集箱设置于拆解工位下方，所述多工位取料机械手与铝板回收工位对应设置。

本发明提供一种基于3D打印技术的锡基巴氏合金涂层材料的制备工艺，包括以下步骤：将锑和铜加入到真空熔炼室中完全熔解后，降温加入锡继续搅拌均匀后，再加入铋、铅和镉，高速搅拌，固化，得到ZSnSb11Cu6锡基巴氏合金锭；将锡基巴氏合金锭从导流嘴向下流出，通过限制式喷嘴和紧耦合喷嘴构成的二次层流喷射系统，再利用喷嘴喷出的高压气流将金属液体雾化破碎成液滴，液滴在自由落体和离心作用下分离冷却凝固，得到锡基巴氏合金粉末；将热处理的基材用粗砂纸打磨后，在激光熔覆的同时输送锡基巴氏合金粉末，经多层多道道激光熔覆在钢基材的表面，最后经表面及边缘铣削加工，形成基于3D打印技术的锡基巴氏合金涂层材料。

1.一种基于3D打印技术的锡基巴氏合金涂层材料的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)将锡基巴氏合金锭融化后，从导流嘴向下流出，通过限制式喷嘴和紧耦合喷嘴构成的二次层流喷射系统，在利用喷嘴喷出的高压气流将金属液体雾化破碎成液滴，液滴在自由落体和离心作用下分离冷却凝固，得到锡基巴氏合金粉末；(2)将基材用粗砂纸打磨后，在激光熔覆的同时输送锡基巴氏合金粉末，经多层多道道激光熔覆在钢基材的表面，最后经表面及边缘铣削加工，形成基于3D打印技术的锡基巴氏合金涂层材料。

本发明提出一种全景图像拼接渲染方法及装置。一种全景图像拼接渲染方法，包括：获取待拼接渲染的鱼眼图像；对所述鱼眼图像进行顶点网格刨分处理，其中，顶点网格刨分精度与所述鱼眼图像的畸变程度成正比；根据对所述鱼眼图像的刨分结果，建立图像拼接渲染球型模型；将刨分后的所述鱼眼图像以及所述图像拼接渲染球型模型输入图形处理器渲染管线，将所述鱼眼图像拼接渲染为全景图像。上述技术方案对鱼眼图像进行切合畸变程度的刨分处理，然后以刨分后的图像进行拼接渲染得到全景图像，可以在保证渲染精度的前提下减少渲染顶点数，提高渲染效率。

1.一种全景图像拼接渲染方法，其特征在于，所述方法包括：获取待拼接渲染的鱼眼图像；对所述鱼眼图像进行顶点网格刨分处理，其中，顶点网格刨分精度与所述鱼眼图像的畸变程度成正比；根据对所述鱼眼图像的刨分结果，建立图像拼接渲染球型模型；将刨分后的所述鱼眼图像以及所述图像拼接渲染球型模型输入图形处理器渲染管线，将所述鱼眼图像拼接渲染为全景图像。

本发明公开了一种布风装置及熔渣粒化换热系统。布风装置包括倾斜布置的三段式布风板、风帽以及和布风板相对应的包括第一子风室、第二子风室和第三子风室在内的风室。第一子风室、第二子风室和第三子风室被按照其流化风速w1、w2、w3的关系w1<w2<w3进行设置。系统包括熔渣粒化换热装置、粒化装置、提升装置、冷却装置、筛分装置以及给渣装置。熔渣粒化换热装置包括流化床粒化换热室和设置在流化床粒化换热室底部的布风装置。流化床粒化换热室底部布风板的最低端一侧设置有渣粒通道，与提升装置下部连通。提升装置上部出口设置在冷却装置顶部。冷却装置底部连接有筛分装置，冷却后的渣粒进入筛分装置中筛分成粗渣和细渣。细渣被输送到给渣装置然后被送回流化床粒化换热室作为流化介质。本发明具有分区冷却，确保高强度冷却的效果。

1.一种布风装置，其特征在于：所述布风装置包括倾斜布置的三段式布风板（12）、设置在所述布风板（12）上的若干个风帽（16）以及设置在所述布风板（12）下方的风室（13），所述风室（13）包括与三段式布风板一一对应的并列布置的第一子风室（131）、第二子风室（132）和第三子风室（133），所述第一子风室（131）、第二子风室（132）和第三子风室（133）沿所述布风板（12）最低端向最高端依次布置，且位于布风板（12）最低端的第一子风室（131）被设置为其流化风速w1最小，位于布风板（12）最高端的第三子风室（133）被设置为其流化风速w3最大。

本发明公开了一种射流粒化喷枪及熔渣粒化换热装置。装置包括粒化换热室、射流粒化器和渣流槽。射流粒化器设置有射流粒化喷枪，射流粒化喷枪设置在粒化换热室的上部，且位于渣流槽下方。射流粒化喷枪包括从上到下依次并列布置的第一喷嘴、第二喷嘴和第三喷嘴，且第一喷嘴、第二喷嘴和第三喷嘴的喷口直径依次增大。第一喷嘴、第二喷嘴和第三喷嘴均为水平或向上倾斜设置，且其喷出口中心轴线与水平面的夹角依次为α、β和θ，0≤α≤15°、0≤β≤25°、0≤θ≤35°。射流粒化喷枪设置两个以上，两个以上射流粒化喷枪沿述粒化换热室周向均匀布置，且射流粒化喷枪喷口方向均朝向渣流槽正下方。本发明具有结构简单、破碎效果好等优点。

1.一种射流粒化喷枪，能够用于喷出高压射流介质对从渣流槽（2）溢流下来的液态熔渣进行破碎，其特征在于：所述射流粒化喷枪包括从上到下依次并列布置的第一喷嘴（3）、第二喷嘴（4）和第三喷嘴（5），且所述第一喷嘴（3）、第二喷嘴（4）和第三喷嘴（5）的喷口直径依次增大；所述第一喷嘴（3）、第二喷嘴（4）和第三喷嘴（5）均为水平或向上倾斜设置。

本发明公开了精准全方位控制无线级联通讯枪间测控装置，包括接箍、本体、电池外筒和电机座；电池外筒安装在本体内，电池外筒内放有电池，其开口端设有电池盖板，电池外筒上固定有装有行程开关的行程开关支座，行程开关上方安装有压力开关，电池外筒与安装有线路板的电路骨架连接，电路骨架与电机座上的电机盖板相连，电机放于电机座中，线路板与电机相连，电机轴与定向器相连，接箍内设有绝缘套筒，绝缘套筒两端放有触帽，两个触帽之间装有弹簧，每个触帽前端装有绝缘护帽，绝缘套筒两端通过绝缘护帽固定在接箍上，本体前端安装有插针，行程开关的开关线与插针一端相连，接箍与本体连接，插针另一端与接箍的触帽导通。该装置实现精准定方位。

1.精准全方位控制无线级联通讯枪间测控装置，其特征在于，包括接箍(1)、本体(2)、电池外筒(5)和电机座(8)；电池外筒(5)安装在本体(2)内，电池外筒(5)内放置有电池，其开口端设置有电池盖板(4)，电池外筒(5)上固定有行程开关支座(3)，行程开关支座(3)上固定有行程开关，行程开关上方安装有压力开关，电池外筒(5)与安装有线路板的电路骨架(6)连接，电路骨架(6)与电机盖板(7)相连，电机盖板(7)安装在电机座(8)上，电机放于电机座(8)中，线路板与电机相连，电机轴与定向器(10)相连，压帽(9)与电机座(8)通过螺纹连接后，将定向器固定在本体(2)上，接箍(1)内设置有绝缘套筒(14)，绝缘套筒(14)两端中均放置有触帽(13)，两个触帽(13)之间安装有弹簧，每个触帽(13)前端安装有绝缘护帽，绝缘套筒(14)两端通过绝缘护帽固定在接箍(1)上，本体(2)前端安装有插针(11)，将行程开关的开关线从本体线孔中抽出然后与插针(11)一端相连，接箍(1)与本体(2)通过螺纹连接，插针(11)另一端与接箍(1)的触帽(13)导通。

本发明属于增材制造技术领域，公开了一种增材制造装置及方法。该增材制造装置包括：用于供给可控物量熔体的熔体供给机构；用于供给可控物量固相颗粒的颗粒供给机构；熔体供给机构与颗粒供给机构均与供料通道连通，供料通道内部沿供料方向设有缩放结构。本发明在供料通道内部设置缩放结构，实现了均匀混合颗粒供给机构提供的固相颗粒和熔体供给机构提供的液相熔体的有益效果，从而解决了现有技术中固液共存态的混合不够充分均匀的问题。

1.一种增材制造装置，其特征在于，包括：用于供给可控物量液相熔体的熔体供给机构；用于供给可控物量固相颗粒的颗粒供给机构；所述熔体供给机构与所述颗粒供给机构均与供料通道连通，所述供料通道内部沿供料方向设有缩放结构(10)。

本发明属于增材制造技术领域，公开了一种增材制造装置及方法。该增材制造装置包括螺旋挤出机构，其中：第一料筒内设有熔体进料口，且第一料筒的外部周设有第一保温层；第二料筒外部周设有第二保温层；螺杆位于第一料筒和第二料筒内，位于第一料筒内的螺杆的周身上设有叶片，位于第二料筒内的螺杆的周身上设有螺纹；第一料筒的容积大于第二料筒的容积，叶片的直径大于螺纹的直径，螺杆的顶部连接有扭矩传感器。本发明对熔体或半固体浆料进行保温并通过扭矩传感器来表征半固体的黏度状态及流动状态，从而解决了现有技术中无法对半固体流动行为进行有效控制的问题。

1.一种增材制造装置，其特征在于，包括螺旋挤出机构(1)，所述螺旋挤出机构(1)包括：第一料筒(11)，其内设有熔体进料口(111)，且所述第一料筒(11)的外部周设有第一保温层(112)；第二料筒(12)，其与所述第一料筒(11)连通且位于所述第一料筒(11)下方，所述第二料筒(12)由上至下依次设有熔体建压区、熔体计量挤出区和半固体出料口(121)，且其外部周设有第二保温层(122)；螺杆(13)，其位于所述第一料筒(11)和所述第二料筒(12)内，位于所述第一料筒(11)内的所述螺杆(13)的周身上设有叶片(131)，位于所述第二料筒(12)内的所述螺杆(13)的周身上设有螺纹(132)；所述第一料筒(11)的容积大于所述第二料筒(12)的容积，所述叶片(131)的直径大于所述螺纹(132)的直径，所述螺杆(13)的顶部连接有扭矩传感器(14)。

本发明涉及光谱化学领域，一种研究分子光异构化的装置，包括电喷雾装置、离子聚束器、离子门、激光器、偏向电极组、直线电极组、八极离子引导器、四极质量过滤器、探测器、真空腔、漂移腔、气体进口和出口，所述偏向电极组具有十九个环形电极，相邻的环形电极之间夹角为五度，直线电极组具有二十个环形电极，偏向电极组II的环形电极具有通孔，激光器III发射的激光能够通过所述通孔沿z负方向进入漂移区域；激光器I发射的激光束能够通过偏向电极组I进入漂移区域，激光器II发射的激光束能够通过直线电极组II进入漂移区域；电喷雾装置由外管、内管、挡板、进气口和液体入口组成，外管和内管均为圆柱形并为同轴嵌套构型，外管和内管之间为液体通道。

1.一种研究分子光异构化的装置，主要包括电喷雾装置(1)、离子聚束器I(2)、离子门I(3)、激光器I(4)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、激光器II(8)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)、离子聚束器II(11)、激光器III(12)、八极离子引导器(13)、四极质量过滤器(14)、探测器(15)、真空腔(16)、漂移腔(17)、气体进口(18)和气体出口(19)，xyz为三维坐标系，所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)和离子聚束器II(11)依次连接，所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)和离子聚束器II(11)均位于所述漂移腔(17)内部，所述偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、直线电极组II(9)和偏向电极组II(10)均由内径为四十毫米的环形电极组成，所述偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、直线电极组II(9)和偏向电极组II(10)的环形电极中心形成的空间为漂移区域，所述漂移腔(17)具有起始端和末端，所述起始端和末端均具有一个小孔用于通过离子束流，所述气体进口(18)位于漂移腔(17)末端的侧壁，所述气体出口(19)位于漂移腔(17)起始端的侧壁，所述气体进口(18)依次连接有质量流量控制器和储气罐，储气罐中装有缓冲气体，缓冲气体为氮气或氦气，通过质量流量控制器能够控制漂移腔(17)中的缓冲气体流量，缓冲气体从气体出口(19)排出漂移腔(17)，缓冲气体流量典型值为0.3SLM，能够形成一个通过离子聚束器I(2)的气体逆流，并能够阻止中性分子特别是电喷雾溶液中的溶剂分子进入漂移区域，漂移腔(17)具有放气阀，通过调节缓冲气流流量和所述放气阀的开与关的频率，能够控制漂移区域中的气压，所述气压典型值为1000帕斯卡，所述电喷雾装置(1)位于漂移腔(17)的起始端外一侧，所述真空腔(16)位于漂移腔(17)的末端外一侧，所述八极离子引导器(13)、四极质量过滤器(14)和探测器(15)依次线性排列地位于真空腔(16)内部，所述真空腔(16)的起始端具有一个小孔用于通过离子束流，真空腔(16)连接有真空泵组，所述真空泵组能够对所述真空腔(16)抽真空，真空度优于10-5mbar，当电喷雾装置(1)产生待测分子的离子后，离子依次经过所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)、离子聚束器II(11)、八极离子引导器(13)和四极质量过滤器(14)到达探测器(15)，从而形成离子束流路径，其特征是：所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)分别均具有十九个环形电极，环形电极垂直于yz平面，相邻的环形电极之间的夹角为五度，所述偏向电极组I(5)中，离子束流先通过的十个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径为五十毫米的1/8圆周上，并以顺时针方向等间距地排列，离子束流接下来通过的九个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径五十毫米的1/8圆周上，并以逆时针方向等间距地排列，所述偏向电极组II(10)中，离子束流先通过的十个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径为五十毫米的1/8圆周上，并以顺时针方向等间距地排列，离子束流接下来通过的九个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径五十毫米的1/8圆周上，并以逆时针方向等间距地排列；所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)中相邻的环形电极之间均串联有一兆欧姆电阻来分压，所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)分别通过两个高压电源来提供电压；直线电极组I(6)和直线电极组II(9)分别均具有二十个环形电极，环形电极垂直于yz平面，偏向电极组II(10)的环形电极具有通孔，激光器III(12)发射的激光能够通过所述通孔沿z负方向进入漂移区域；激光器I(4)发射的激光束能够通过所述偏向电极组I(5)进入漂移区域，激光器II(8)发射的激光束能够通过所述直线电极组II(9)进入漂移区域；离子聚束器I(2)由五十块厚度为一毫米的金属环形电极组成，包括十个内径为四十毫米的环形电极和沿z正方向内径为从四十毫米线性减小至二毫米的四十个环形电极，相邻金属环形电极用一毫米厚的绝缘片隔开；漂移区域末端连接的离子聚束器II(11)由四十个沿z正方向内径为从四十毫米线性减少至二毫米的环形电极组成；所述电喷雾装置(1)由外管(1-1)、内管(1-2)、挡板(1-3)、进气口(1-4)和液体入口(1-5)组成，所述挡板(1-3)能够将所述内管(1-2)的一侧端口密封，所述外管(1-1)和内管(1-2)均为圆柱形，外管(1-1)的内径为3000微米，内管(1-2)的外径为2700微米，所述外管(1-1)和内管(1-2)为同轴嵌套构型，所述外管(1-1)和内管(1-2)之间为液体通道，进气口(1-4)和液体入口(1-5)分别连接外管(1-1)外壁并与所述液体通道连通，外管(1-1)内壁具有分散的沿外管轴向的凹槽，所述凹槽能够使得液体在局部形成突出状以增大局域电场。

本发明涉及光谱化学领域，一种研究分子光异构化的方法，采用多种光激发模式研究气相的分子离子的光异构化，能够在质谱阶段前进行同分异构物选择并对产物中的同分异构物进行鉴别，具有多种光激发模式；能够用于研究分子离子的光分解，能够同时从迁移速率和质量两方面来鉴别其带电产物；本发明特殊的电喷雾方法能够喷射出较为均匀的雾化液滴，喷射头具有环状的液体通道，液体以薄层的形状被施加上高电压，从而能够喷射出较为均匀的雾化液滴，提高进入漂移区域的离子包的质量。

1.一种研究分子光异构化的方法，研究分子光异构化的装置主要包括电喷雾装置(1)、离子聚束器I(2)、离子门I(3)、激光器I(4)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、激光器II(8)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)、离子聚束器II(11)、激光器III(12)、八极离子引导器(13)、四极质量过滤器(14)、探测器(15)、真空腔(16)、漂移腔(17)、气体进口(18)和气体出口(19)，xyz为三维坐标系，所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)和离子聚束器II(11)依次连接，所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)和离子聚束器II(11)均位于所述漂移腔(17)内部，所述偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、直线电极组II(9)和偏向电极组II(10)均由内径为四十毫米的环形电极组成，所述偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、直线电极组II(9)和偏向电极组II(10)的环形电极中心形成的空间为漂移区域，所述漂移腔(17)具有起始端和末端，所述起始端和末端均具有一个小孔用于通过离子束流，所述气体进口(18)位于漂移腔(17)末端的侧壁，所述气体出口(19)位于漂移腔(17)起始端的侧壁，所述气体进口(18)依次连接有质量流量控制器和储气罐，储气罐中装有缓冲气体，缓冲气体为氮气或氦气，通过质量流量控制器能够控制漂移腔(17)中的缓冲气体流量，缓冲气体从气体出口(19)排出漂移腔(17)，缓冲气体流量典型值为0.3SLM，能够形成一个通过离子聚束器I(2)的气体逆流，并能够阻止中性分子特别是电喷雾溶液中的溶剂分子进入漂移区域，漂移腔(17)具有放气阀，通过调节缓冲气流流量和所述放气阀的开与关的频率，能够控制漂移区域中的气压，所述气压典型值为1000帕斯卡，所述电喷雾装置(1)位于漂移腔(17)的起始端外一侧，所述真空腔(16)位于漂移腔(17)的末端外一侧，所述八极离子引导器(13)、四极质量过滤器(14)和探测器(15)依次线性排列地位于真空腔(16)内部，所述真空腔(16)的起始端具有一个小孔用于通过离子束流，真空腔(16)连接有真空泵组，所述真空泵组能够对所述真空腔(16)抽真空，真空度优于10-5mbar，当电喷雾装置(1)产生待测分子的离子后，离子依次经过所述离子聚束器I(2)、离子门I(3)、偏向电极组I(5)、直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)、偏向电极组II(10)、离子聚束器II(11)、八极离子引导器(13)和四极质量过滤器(14)到达探测器(15)，从而形成离子束流路径；所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)分别均具有十九个环形电极，环形电极垂直于yz平面，相邻的环形电极之间的夹角为五度，所述偏向电极组I(5)中，离子束流先通过的十个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径为五十毫米的1/8圆周上，并以顺时针方向等间距地排列，离子束流接下来通过的九个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径五十毫米的1/8圆周上，并以逆时针方向等间距地排列，所述偏向电极组II(10)中，离子束流先通过的十个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径为五十毫米的1/8圆周上，并以顺时针方向等间距地排列，离子束流接下来通过的九个环形电极的中心位于yz平面内、且位于半径五十毫米的1/8圆周上，并以逆时针方向等间距地排列；所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)中相邻的环形电极之间均串联有一兆欧姆电阻来分压，所述偏向电极组I(5)和偏向电极组II(10)分别通过两个高压电源来提供电压；直线电极组I(6)和直线电极组II(9)分别均具有二十个环形电极，环形电极垂直于yz平面，偏向电极组II(10)的环形电极具有通孔，激光器III(12)发射的激光能够通过所述通孔沿z负方向进入漂移区域；激光器I(4)发射的激光束能够通过所述偏向电极组I(5)进入漂移区域，激光器II(8)发射的激光束能够通过所述直线电极组II(9)进入漂移区域；离子聚束器I(2)由五十块厚度为一毫米的金属环形电极组成，包括十个内径为四十毫米的环形电极和沿z正方向内径为从四十毫米线性减小至二毫米的四十个环形电极，相邻金属环形电极用一毫米厚的绝缘片隔开；漂移区域末端连接的离子聚束器II(11)由四十个沿z正方向内径为从四十毫米线性减少至二毫米的环形电极组成；所述电喷雾装置(1)由外管(1-1)、内管(1-2)、挡板(1-3)、进气口(1-4)和液体入口(1-5)组成，所述挡板(1-3)能够将所述内管(1-2)的一侧端口密封，所述外管(1-1)和内管(1-2)均为圆柱形，外管(1-1)的内径为3000微米，内管(1-2)的外径为2700微米，所述外管(1-1)和内管(1-2)为同轴嵌套构型，所述外管(1-1)和内管(1-2)之间为液体通道，进气口(1-4)和液体入口(1-5)分别连接外管(1-1)外壁并与所述液体通道连通，外管(1-1)内壁具有分散的沿外管轴向的凹槽，所述凹槽能够使得液体在局部形成突出状以增大局域电场，所述外管(1-1)内壁的凹槽的数量为四到十二个，凹槽断面形状为半圆形或正方形或三角形，其特征是：所述一种研究分子光异构化的方法的步骤为：一.将高纯氮气从电喷雾装置(1)的进气口(1-4)通入，流量典型值为1.0SLM，同时将包含待测分子的溶液从电喷雾装置(1)的液体入口(1-5)通入，流量典型值为2.0毫升/分钟；二.在电喷雾装置(1)的外管(1-1)和内管(1-2)之间施加电压，电压范围1000V到5000V，使得溶液中的部分待测分子成为离子形式，并且溶液在电喷雾装置(1)出口形成雾化的液滴，调节电压能够调整液体喷雾的形状，一部分液滴通过漂移腔(17)起始端的小孔进入漂移腔(17)；三.进入漂移腔(17)的离子在通过离子聚束器I(2)时，离子聚束器I(2)的第一个环形电极和最后一个环形电极上只施加直流电势，其他环形电极上施加直流及交流电势，直流电势的范围150V到300V，交流电势的范围30V到50V，且相邻环形电极上施加的交流电势的相位相反，交流电势的驱动频率为300kHz，通过分压器加到每一个环形电极上的直流电势沿z正方向递减，使得离子束达到汇聚的效果；四.离子束经过偏向电极组I(5)所在的漂移区域时的运动方向先偏离z方向后又回到z方向，接下来依次经过直线电极组I(6)、离子门II(7)、直线电极组II(9)后，接下来在偏向电极组II(10)所在的漂移区域中运动方向先偏离z方向后又回到z方向；五.激光照射到位于漂移区域中的离子包，对其进行激发，激光束横截面大于5毫米×5毫米以使得整个离子包都被照射到，有三种光激发模式可以选择：模式一：离子在通过离子门I(3)之后30毫米位置受到由激光器I(4)发射的激光脉冲照射，母离子以及由光激发产生的光异构体、光碎片离子在经过漂移区域后能够在时间和空间上被分离开来，优点是整个离子包能够在扩散之前被相对较强的激光照射；模式二：在漂移区域中离子包经过离子门II(7)的迁移率选择后，被由激光器II(8)发射的激光照射。在离子门I(3)开启并将某个离子包传输通过后，离子门II(7)开启100微秒，在离子门II(7)后15mm位置，由激光器II(8)发射的激光脉冲与所选择的离子相重叠，优点是能够对漂移管中的在时间和空间上分离的光异构体进行激发，生成经过迁移率选择的异构体离子包，其结果是，光异构体信号能够在零背底的条件下被观测到；模式三：由激光器III(12)发射的激光通过偏向电极组II(10)的环形电极上的通孔，沿z方向辐射到离子上，优点是适用于从基态激发到激发态并迅速弛豫到基态的分子离子，在这种条件下，激光激发能够用于建立基态与激发态之间的光驱动平衡；六.离子束进入离子聚束器II(11)，离子聚束器II(11)的第一个环形电极和最后一个环形电极上只施加直流电势，其他环形电极上施加直流及交流电势，直流电势的范围150V到300V，交流电势的范围30V到50V，且相邻环形电极上施加的交流电势的相位相反，驱动频率为500kHz，通过分压器加到每一个环形电极上的直流电势线性递减，使得离子束进一步汇聚；七.离子束依次通过漂移腔(17)末端的小孔及真空腔(16)起始端的小孔进入真空腔(16)，离子束经过八极离子引导器(13)后，其在xz平面的截面减小；八.离子束经过四极质量过滤器(14)，通过调节四极质量过滤器(14)的四极杆上的电压值，电压范围50V到200V，能够根据离子的荷质比差异对离子进行质量选择；九.经过质量选择的离子进入探测器(15)，得到对应的信号；十.分析数据，得到不同激光条件下探测器(15)探测到的离子信号的强弱及延迟时间，得到各异构体离子包到达探测器的时间的分布，得到各异构体离子包到达探测器的时间与其荷质比的关系，得到各异构体离子包到达探测器的时间与光激发采用的激光波长的关系，判断产生的离子的类型及其与不同激光波长的关系，得到光异构化作用谱；十一.进一步分析数据，确定测得的离子迁移率与分子结构的关系。

本发明涉及材料制备领域，一种有机分子的真空沉积方法，将高纯氮气从进气口通入，流量典型值为5.0SLM，将溶液从液体入口通入，流量典型值为20mL/M；在外管和内管之间施加电压，使得溶液中的部分待沉积分子成为离子形式，溶液形成雾化液滴，调节电压，调整挡板旋转，改变挡板与凹槽相对位置，控制喷射束流；调节电喷雾装置位置，调整通过毛细管进入真空腔体的雾化液滴数量；液滴中的待沉积分子的离子包和杂质通过离子聚束器I；待沉积分子的离子包和杂质通过离子聚束器II，离子束进一步汇聚；离子包和杂质到达静电偏向器；经过荷质比选择，带电杂质被偏转并与四极质量过滤器的极板碰撞而被过滤，最终只有待沉积分子的离子包到达衬底表面。

1.一种有机分子的真空沉积方法，有机分子的真空沉积装置主要包括电喷雾装置(1)、位移台(2)、毛细管(3)、真空腔体(4)、离子聚束器I(5)、离子聚束器II(6)、静电偏向器(7)、四极质量过滤器(8)和样品台(9)，xyz为三维坐标系，电喷雾装置(1)安装在位移台(2)上能够三维移动，所述真空腔体(4)为两段圆柱形真空腔呈90度连接而成、且具有初始端和末端，所述离子聚束器I(5)、离子聚束器II(6)、静电偏向器(7)、四极质量过滤器(8)、样品台(9)依次均位于真空腔体(4)内，静电偏向器(7)位于真空腔的转角处，四极质量过滤器(8)具有极板，样品台(9)上具有衬底，所述真空腔体(4)连接有多个真空泵组，使得在离子聚束器I(5)处真空度1.0mbar、在离子聚束器II(6)处真空度4×10-2mbar、在静电偏向器(7)处真空度1×10-5mbar、在四极质量过滤器(8)处真空度1×10-7mbar；所述真空腔体(4)的初始端连接有毛细管(3)，电喷雾装置(1)产生的液滴能够通过所述毛细管(3)进入真空腔体(4)，液滴中大部分溶剂被真空泵组抽出真空腔体(4)外，液滴中的待沉积分子的离子包和带电杂质依次通过离子聚束器I(5)、离子聚束器II(6)到达静电偏向器(7)，在静电偏向器(7)中待沉积分子的离子包和带电杂质被偏转90度后，到达四极质量过滤器(8)，而中性杂质不会被偏转；在四极质量过滤器(8)中经过荷质比选择，带电杂质被偏转并与四极质量过滤器(8)的极板碰撞而被过滤，最终仅有待沉积分子的离子包到达样品台(9)上的衬底表面；电喷雾装置(1)由外管(1-1)、内管(1-2)、挡板(1-3)、进气口(1-4)、液体入口(1-5)组成，所述外管(1-1)和内管(1-2)均为圆柱形，外管(1-1)的内径为3000微米，内管(1-2)的外径为2700微米，所述外管(1-1)和内管(1-2)为同轴嵌套构型，外管(1-1)和内管(1-2)之间为液体通道，进气口(1-4)和液体入口(1-5)分别连接外管(1-1)外壁并与液体通道连通，外管(1-1)内壁具有分散的沿外管轴向的形状完全相同的凹槽，能够增大局域电场；离子聚束器I(5)将真空腔体(4)分为真空段I(4-1)和真空段II(4-2)，离子聚束器I(5)位于真空腔体(4)起始端一侧的真空段I(4-1)中，离子聚束器II(6)位于真空段II(4-2)起始端一侧的真空段II(4-2)中，离子聚束器I(5)由三十块厚度为一毫米的金属环形电极组成，相邻金属环形电极用一毫米厚的绝缘片隔开，环形电极的内径从五十毫米到五毫米线性递减；离子聚束器II(6)由六十个金属环形电极组成，相邻金属环形电极用二毫米厚的绝缘片隔开，其中前十个环形电极内径三十毫米，后五十个环形电极的内径从三十毫米到二毫米线性递减；所述挡板(1-3)为直径2900微米的圆形金属板，且与所述内管(1-2)的一侧端口同心，并将所述内管(1-2)的一侧端口密封，挡板(1-3)边缘具有形状相同的缺口，相邻的所述缺口之间的间距一致，挡板(1-3)能够绕外管(1-1)和内管(1-2)的轴线旋转，以控制喷射束流；所述外管(1-1)内壁的凹槽的数量为四到十二个，凹槽断面形状为半圆形或正方形或三角形，挡板(1-3)上缺口的数量为四到十二个，缺口形状为半圆形或正方形或三角形，所述半圆形的半径范围30微米到50微米，所述正方形的边长范围40微米到60微米，所述三角形边长范围30微米到60微米，其特征是：所述一种有机分子的真空沉积方法的步骤为：一.将高纯氮气从电喷雾装置(1)的进气口(1-4)通入，流量典型值为5.0SLM，SLM为标准气体每升/分钟，同时将包含待沉积分子的溶液从电喷雾装置(1)的液体入口(1-5)通入，流量典型值为20mL/M(毫升/分钟)；二.在电喷雾装置(1)的外管(1-1)和内管(1-2)之间施加电压，电压范围2000V到6000V，使得溶液中的部分待沉积分子成为离子形式，并且溶液在电喷雾装置(1)出口形成雾化的液滴，调节电压以能够调整液体喷雾的形状，调整挡板(1-3)的位置使其绕外管(1-1)和内管(1-2)的轴线旋转，改变挡板(1-3)上的缺口与外管(1-1)上的凹槽之间的相对位置，以能够控制喷射束流；三.通过位移台(2)调节电喷雾装置(1)位置，以能够调整通过毛细管(3)进入真空腔体(4)的雾化的液滴的数量；四.进入真空腔体(4)的液滴中大部分溶剂被真空泵组抽出真空腔体(4)外，液滴中的待沉积分子的离子包和杂质通过离子聚束器I(5)，离子聚束器I(5)的第一个环形电极和最后一个环形电极上只施加直流电势，其他环形电极上施加直流及交流电势，且相邻环形电极上施加的交流电势的相位相反，驱动频率为300kHz，通过分压器加到每一个环形电极上的直流电势线性递减，使得离子束达到汇聚的效果；五.待沉积分子的离子包和杂质等通过离子聚束器II(6)，离子聚束器II(6)的第一个环形电极和最后一个环形电极上只施加直流电势，其他环形电极上施加直流及交流电势，且相邻环形电极上施加的交流电势的相位相反，驱动频率为500kHz，通过分压器加到每一个环形电极上的直流电势线性递减，使得离子束进一步汇聚；六.离子包和杂质到达静电偏向器(7)，在静电偏向器(7)中待沉积分子的离子包和带电杂质被偏转90度后到达四极质量过滤器(8)，中性杂质不会被偏转而被过滤；七.在四极质量过滤器(8)中经过荷质比选择，通过调节施加在四极质量过滤器(8)的极板上的电压，使得带电杂质被偏转并与四极质量过滤器(8)的极板碰撞从而被过滤，最终只有待沉积分子的离子包到达样品台(9)上的衬底表面。

本发明涉及材料制备领域，一种大分子沉积方法，泵组抽真空；将溶液通入；缓冲气体通入缓冲气体腔，通过出气口进入喷雾腔，最终从缓冲气出口排出；在外管和内管之间施加电压，使得溶液中的部分待沉积分子成为离子形式，并且溶液在电喷雾装置出口形成雾化的液滴，调节电压，调整电喷雾装置位置；部分电喷雾装置出口形成雾化的液滴依次通过出气口II、缓冲气体腔进入真空腔，液滴中剩下待沉积分子的离子、溶剂分子及杂质组成的离子束流；当离子束流通过分流器I时，溶剂分子由于与分流器I壁碰撞而受热并被蒸发从而偏离离子束流；杂质由于与分流器II壁碰撞而受热并被散射从而偏离离子束流；离子束流中部分离子沉积在挡板上；待沉积分子沉积在样品上。

1.一种大分子沉积方法，大分子沉积装置主要包括缓冲气出口(1)、喷雾腔(2)、电喷雾装置(3)、高压电源(4)、缓冲气体腔(5)、出气口I(6)、出气口II(7)、缓冲气进口(8)、真空腔(9)、泵组I(10)、分流器I(11)、泵组II(12)、分流器II(13)、泵组III(14)、沉积腔(15)、挡板(16)、直流电源(17)和样品(18)，xyz为三维坐标系，所述喷雾腔(2)、缓冲气体腔(5)、真空腔(9)和沉积腔(15)依次连接，所述真空腔(9)被分流器I(11)和分流器II(13)分为真空段I(9-1)、真空段II(9-2)和真空段III(9-3)，真空段I(9-1)和真空段III(9-3)分别位于真空腔(9)的起始端和末端，所述起始端和末端均具有小孔，沉积腔(15)的起始端具有小孔；泵组I(10)、泵组II(12)和泵组III(14)分别连接真空段I(9-1)、真空段II(9-2)和真空段III(9-3)；所述挡板(16)和样品(18)位于沉积腔(15)中，挡板(16)为金属材质并具有通孔，所述通孔直径范围是一毫米至十毫米；直流电源(17)的一个电极连接挡板(16)，另一个电极接地，能够中和积聚在挡板(16)上的电荷；电喷雾装置(3)位于喷雾腔(2)内，电喷雾装置(3)由外管(1-1)、内管(1-2)、挡板(1-3)和液体入口(1-4)组成，所述挡板(1-3)将所述内管(1-2)的末端端口密封，所述外管(1-1)和内管(1-2)均为圆柱形，外管(1-1)的内径为3000微米，内管(1-2)的外径为2700微米，所述外管(1-1)和内管(1-2)为同轴嵌套构型，外管(1-1)和内管(1-2)之间为液体通道，液体入口(1-4)连接外管(1-1)外壁并与所述液体通道连通，高压电源(4)与外管(1-1)电缆连接；所述缓冲气体腔(5)具有出气口I(6)、出气口II(7)和缓冲气进口(8)，出气口II(7)是直径为二毫米的圆形且位于xy平面，出气口I(6)是内径为六毫米外径为八毫米的环形且位于xy平面，出气口I(6)与出气口II(7)同心，缓冲气体从缓冲气进口(8)进入缓冲气体腔(5)，并能够通过出气口I(6)和出气口II(7)进入喷雾腔(2)，最终从缓冲气出口(1)排出，缓冲气体为氮气或氦气；电喷雾装置(3)的外管(1-1)末端内壁上具有形状相同的若干缺口，相邻的所述缺口之间的间距相等，使得能够增大局域电场而产生更多的液体喷雾，所述分流器I(11)具有加热丝，其温度能够从室温到500摄氏度范围内调节；所述外管(1-1)末端内壁上的缺口数量为四到十二个，所述缺口形状为半圆形或正方形或三角形，其特征是：所述一种大分子沉积方法的步骤为：一.开启泵组I(10)、泵组II(12)和泵组III(14)，使得真空段I(9-1)、真空段II(9-2)和真空段III(9-3)的真空分别达到1×10-2mbar、1×10-5mbar、1×10-7mbar；二.将包含待沉积分子的溶液从电喷雾装置(3)的液体入口(3-4)通入，流速典型值为20mL/M(毫升/分钟)；三.将缓冲气体从缓冲气进口(8)通入缓冲气体腔(5)，并通过出气口I(6)及出气口II(7)进入喷雾腔(2)，最终从缓冲气出口(1)排出，流速范围为2到10SLM(SLM为标准气体每升/分钟)；四.在电喷雾装置(3)的的外管(3-1)和内管(3-2)之间施加电压，电压范围1000V到6000V，使得溶液中的部分待沉积分子成为离子形式，并且溶液在电喷雾装置(3)出口形成雾化的液滴，液滴中包含了待沉积分子、其他杂质以及溶剂，调节电压能够调整液体喷雾的形状，调整电喷雾装置(3)位置，使得外管(3-1)与出气口II(7)同心；五.部分电喷雾装置(3)出口形成雾化的液滴依次通过出气口II(7)、缓冲气体腔(5)进入真空腔(9)，液滴中大部分溶剂被泵组I(10)抽出真空腔(9)外，液滴中剩下的待沉积分子的离子、部分溶剂分子及其他杂质组成的离子束流继续在真空腔(9)中运动；六.使得分流器I(11)的温度达到300摄氏度，当离子束流通过分流器I(11)时，溶剂分子由于与分流器I(11)壁碰撞而受热并被蒸发从而偏离离子束流；七.分流器II(13)的温度达到400摄氏度，部分其他杂质由于与分流器II(13)壁碰撞而受热并被散射从而偏离离子束流；八.离子束流中部分离子沉积在挡板(16)上，将直流电源(17)的输出电流设置为范围0.1mA到1mA，用于中和积聚在挡板(16)上的电荷；九.离子束流中部分待沉积分子沉积在样品(18)上。

本发明涉及分子谱学领域，一种用于大分子光反应的方法，由于用于大分子光反应的装置采用了特殊设计的缓冲气体腔，具有能够交替开启和关闭的出气口，以有效控制的缓冲气体的逆流来稳定电喷雾射流，有效控制的缓冲气体的逆流，从而增加喷雾的均匀度及质量流量，采用了特殊设计的离子聚束器，并同时施加交流电势和直流电势来减少离子束流中的杂质，以能够增加离子束流的透射率，并减少了离子束流中的杂质，能够产生气相的大分子的离子、并具有高灵敏度及信号稳定性。

1.一种用于大分子光反应的方法，用于大分子光反应的装置主要包括缓冲气出口(1)、喷雾腔(2)、电喷雾装置(3)、高压电源(4)、缓冲气体腔(5)、出气口I(6)、出气口II(7)、缓冲气进口(8)、真空腔(9)、离子聚束器(10)、四极杆质量过滤器I(11)、探测器I(12)、偏向器I(13)、八极杆引导器(14)、偏向器II(15)、激光器I(16)、离子阱(17)、偏向器III(18)、激光器II(19)、四极杆质量过滤器II(20)和探测器II(21)，xyz为三维坐标系，探测器I(12)连接于偏向器I(13)，真空腔(9)具有能透光的真空窗口，激光器I(16)发射的激光束能够通过所述真空窗口及偏向器II(15)进入离子阱(17)，激光器II(19)发射的激光束能够通过所述真空窗口及偏向器III(18)进入离子阱(17)，所述喷雾腔(2)、缓冲气体腔(5)和真空腔(9)依次连接，所述真空腔(9)被离子聚束器(10)、偏向器I(13)、偏向器II(15)和偏向器III(18)依次分隔为真空段I(9-1)、真空段II(9-2)、真空段III(9-3)、真空段IV(9-4)和真空段V(9-5)，真空段II(9-2)和真空段III(9-3)之间、真空段III(9-3)和真空段IV(9-4)之间、真空段IV(9-4)和真空段V(9-5)之间均分别在yz平面内呈90度角连接，所述偏向器I(13)、偏向器II(15)和偏向器III(18)分别位于所述90度角连接处，真空段I(9-1)和真空段V(9-5)分别位于真空腔(9)的起始端和末端，所述起始端具有小孔，所述真空腔(9)连接有真空泵组；四极杆质量过滤器I(11)位于真空段II(9-2)内，四极杆质量过滤器I(11)和四极杆质量过滤器II(20)能够根据离子的荷质比对通过的离子进行质量选择，八极杆引导器(14)位于真空段III(9-3)内，能够对离子束流进行引导，离子阱(17)位于真空段IV(9-4)内，通过调节施加在离子阱(17)上的电势，能够将离子囚禁在离子阱(17)中，并能够将离子冷却，离子阱(17)具有束流挡板，能够阻挡离子束流，四极杆质量过滤器II(20)和探测器II(21)均位于真空段V(9-5)内；电喷雾装置(3)位于喷雾腔(2)内，电喷雾装置(3)具有喷雾口，高压电源(4)与电喷雾装置(3)电缆连接，当高压电源(4)输出高于1000V的电压时，雾化的液体能够从所述喷雾口喷出；缓冲气体腔(5)的横截面是直径为100毫米的圆形，所述横截面具有出气口II(7)和出气口I(6)，出气口II(7)是直径为6毫米的圆形且位于缓冲气体腔(5)横截面的中心，出气口I(6)具有两个且关于出气口II(7)对称，缓冲气体腔(5)能够绕其在z方向的中心轴转动；出气口II(7)处安装有阀，能够通过外部电路控制阀的开启与关闭；离子聚束器(10)由第1个环形电极盘至第100个环形电极盘总共100片环形电极盘组成，所述环形电极盘的厚度均为0.5毫米，相邻的环形电极盘之间间隔均为0.5毫米、并沿z轴正方向平行且同心排列，所述第1个环形电极盘到第50个环形电极盘的中心孔径均为26毫米，第51个环形电极盘到第100个环形电极盘的孔径从26毫米线性减小至2毫米，其中第30个环形电极盘的中心孔处通过金属支撑条(10-3)连接有一个直径为七毫米的金属盘，金属支撑条(10-3)宽度为0.5毫米，所述金属支撑条(10-3)具有四根且均布，能够使得金属盘与第30个环形电极盘中心孔同心，金属盘能够将离子流中的中性杂质的射流发散，其特征是：所述一种用于大分子光反应的方法的步骤为：一.开启真空泵组，使得真空段I(9-1)、真空段II(9-2)、真空段III(9-3)、真空段IV(9-4)和真空段V(9-5)的真空度分别达到1mbar、1×10-2mbar、2×10-7mbar、2×10-9mbar和1×10-9mbar；二.调整电喷雾装置(3)位置，使所述喷雾口正对着出气口II(7)，高压电源(4)输出电压，电喷雾装置(3)将包含待研究分子的溶液以雾化液滴形式喷出至喷雾腔(2)，液滴中包含了待研究分子、其他杂质以及溶剂分子，调节高压电源(4)输出电压能够调整液体喷雾的形状，输出电压范围从2000V到5000V；三.将缓冲气体从缓冲气进口(8)通入缓冲气体腔(5)，并通过出气口I(6)及出气口II(7)进入喷雾腔(2)，最终从缓冲气出口(1)排出，流速范围为1到5SLM，SLM为标准气体每升/分钟，与此同时，使缓冲气体腔(5)绕其在z方向的中心轴转动，转速为0.05周/秒，控制出气口II(7)处的阀的开启与关闭，开启与关闭的间隔时间为1秒；四.部分电喷雾装置出口形成雾化的液滴通过出气口I(6)及出气口II(7)进入缓冲气体腔(5)后进入真空腔(9)，液滴中大部分溶剂被真空泵组抽出真空腔(9)外，液滴中剩下的待测分子的离子、部分溶剂分子及其他杂质组成的离子束流继续在真空腔(9)中运动；五.离子聚束器(10)的第奇数个和第偶数个环形电极上分别施加+V和-V的射频电压，射频电压的驱动频率范围从100kHz到600kHz，射频电势典型值20V，其中，第30个环形电极上不施加射频电势，只施加直流电势150V，与此同时，离子聚束器(10)的第1个到第29个环形电极及第31个到第100个环形电极上施加直流电势，第1个环形电极上的直流电势200V，第100个环形电极上的直流电势10V，从第1个到第29个环形电极及从第31个到第100个环形电极上施加的直流电势线性减少；六.离子束流通过离子聚束器(10)后，又通过四极杆质量过滤器I(11)，接下来被偏向器I(13)偏向后进入真空段III(9-3)；七.离子束流通过八极杆引导器(14)后，被偏向器II(15)偏向后进入真空段IV(9-4)；八.离子阱(17)具有束流挡板，能够阻挡离子束流，开启所述束流挡板200微秒后关闭，通过所述束流挡板的离子束流以离子包的形式进入离子阱(17)，调节离子阱(17)的电势使得所述离子包被囚禁在离子阱(17)中并冷却；九.激光器I(16)或激光器II(19)发射的激光束照射到离子阱中的离子包上，进行光激发反应，照射时间典型值为0.1秒；十.激光停止照射时，调节离子阱(17)电势，使得光激发反应产生的离子碎片离开离子阱(17)并向偏向器III(18)运动；十一.所述离子碎片被偏向器III(18)偏向后进入四极杆质量过滤器II(20)，在四极杆质量过滤器II(20)中进行质量选择后进入探测器II(21)；十二.分析探测器II(21)采集的数据，对光激发产物进行表征。

本发明公开了一种SLM3D打印机，包括气体保护箱以及设置在气体保护箱外壁的计算机，气体保护箱内设置铺粉成型工作台，铺粉成型工作台的上方设置有两组X轴运动机构，两组X轴运动机构均连接有同一个Y轴运动机构，铺粉成型工作台上依次插装有送粉缸、铺粉成型缸以及粉末回收缸，铺粉成型缸内设置有打印基板，打印基板的一侧设置有可驱动打印基板在铺粉成型缸内Z向移动的Z向运动机构，每一组X轴运动机构上均设置有可在打印基板上进行激光选区融化的激光熔覆装置以及改善金属组织与力学性能的激光热处理装置。本发明具有以下有益效果：这种打印机可防止金属凝固的过程中产生裂纹，进而提高成品率；同时可提高3D打印速度，以适于大规模生产。

1.一种SLM3D打印机，包括气体保护箱(1)以及设置在气体保护箱(1)外壁的计算机(2)，其特征是：所述气体保护箱(1)内设置铺粉成型工作台(3)，所述铺粉成型工作台(3)的上方设置有两组X轴运动机构(4)，两组所述X轴运动机构(4)均连接有同一个Y轴运动机构(5)，所述铺粉成型工作台(3)上依次插装有送粉缸(6)、铺粉成型缸(7)以及粉末回收缸(8)，所述铺粉成型缸(7)内设置有打印基板(9)，所述打印基板(9)的一侧设置有可驱动打印基板(9)在铺粉成型缸(7)内Z向移动的Z向运动机构(10)，每一组所述X轴运动机构(4)上均设置有可在打印基板(9)上进行激光选区融化的激光熔覆装置(11)以及改善金属组织与力学性能的激光热处理装置(12)；所述送粉缸(6)内设置有用以将送粉缸(6)内的原材料粉末送到铺粉成型工作台(3)表面的送粉装置(13)，所述铺粉成型工作台(3)上设置有铺粉装置(14)，溢出的原材料粉末在所述铺粉装置(14)带动下进入铺粉成型缸(7)，并均匀平铺在所述成型工作台表面，多余的原材料粉末在所述铺粉装置(14)带动下进入粉末回收缸(8)，所述粉末回收缸(8)内设置有粉末筛分装置(15)，所述送粉缸(6)的上方设置有可对送粉缸(6)进行定量供粉操作的供粉装置(16)。

系统和方法涉及：将原子排列成1D和/或2D阵列；例如使用本文所述的激光操纵技术和高保真激光系统来将所述原子激发成里德伯态并使所述原子阵列演化；以及观察所得的最终状态。此外，可以进行改进，诸如提供对所述组装的原子阵列的高保真度和相干控制。示例性问题可以使用用于原子的排列和控制的系统和方法来解决。

1.一种方法，其包括：以第一阵列状态形成原子阵列，其中所述形成包括：用多个离散的可调节声学音调频率来激发晶体，使激光穿过所述晶体以产生多个限制区域，其中每个声学音调频率对应于单个原子的单独限制区域，在所述多个限制区域中的至少两个中捕获至少两个原子，与所述离散的可调节声学音调频率关联来识别包含所述捕获的原子的所述限制区域，以及通过扫掠至少一个关联的可调节声学音调频率来调节所述捕获的原子中的至少两个之间的间距；通过使所述捕获的原子中的至少一些经受光子能量以使所述捕获的原子中的至少一些转变成激发态来使处于所述第一阵列状态的所述多个原子演化为处于第二阵列状态的多个原子；以及观察处于所述第二阵列状态的所述多个原子。

本发明涉及一种增减材复合制造设备及制造方法。本发明将增材区和减材区利用工件切换区进行分割，确保了增、减材气氛环境互不干扰，并且工位切换区实现了工件的自动切换，不仅提高了设备的加工效率，同时避免了工件切换对增材单元气氛环境的不良影响，提高了增材制造的工艺稳定性。该设备主要结构包括增材区、减材区以及工件切换区；增材区包括第一密封舱、第一气氛调节系统以及设置在第一密封舱内用于对工件进行增材处理的增材单元；减材区包括用于对工件进行减材处理的减材单元；减材单元位于空气环境中；工件切换区包括第二密封舱、第二气氛调节系统以及设置在第二密封舱内的用于将工件在增材单元和减材单元之间相互传输的托盘式交换台。

1.一种增减材复合制造设备，其特征在于：包括增材区(01)、减材区(03)以及工件切换区(02)；增材区(01)包括第一密封舱(011)、第一气氛调节系统(012)以及设置在第一密封舱(011)内用于对工件进行增材处理的增材单元(1)；减材区(03)包括用于对工件进行减材处理的减材单元(3)；减材单元(3)位于空气环境中；工件切换区(02)包括第二密封舱(021)、第二气氛调节系统(022)以及设置在第二密封舱(021)内的用于将工件在增材单元(1)和减材单元(3)之间相互传输的托盘式交换台(2)；第一气氛调节系统(012)用于保持第一密封舱(011)内的气氛环境始终处于惰性气体保护环境；第二气氛调节系统(022)用于实现第二密封舱(021)内的气氛环境在惰性气体保护环境和空气环境两种状态下快速切换；第一密封舱(011)和第二密封舱(021)之间、第二密封舱(021)与减材区(03)之间均设置有密封舱门(05)。